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气氛炉结构解析特点
发布日期:2020-05-08 浏览次数:
箱式气氛炉又叫气氛炉,高温炉,管式炉。是一种先进实验设备,适用于金属,纳米,单晶硅,多晶硅,电池等的扩散焊接以及真空气体保护下,气氛热处理的加热设备钼丝炉,箱式气氛炉,真空管式炉用于材料或化学实验室,在真空或气氛状态下烧结各种新材料样品。
箱式气氛炉的结构分为以下几个部分:
1.炉膛
炉膛采用莫来石聚轻砖砌筑,炉膛内上下用碳化硅棚板,炉内温度是加热元件在加热过程中经过碳化硅棚板传导(暗火加热),温度更均匀。炉壳密封。为提高密封 垫的使用寿命在炉门口设有循环水冷套以降低密封处的温度。进气设炉膛底部,经加热腔预热后分多处进入炉内,排气经炉顶后部排出。保证炉内气氛均匀,减小炉 内温差。气路上装有气体流量计,用于正常使用控制气氛流量。
2.冷却
炉门采用循环式水冷。设有进出水接头。
3.电气
电气部分采用与炉体一体化结构,整个电气元件安装在炉体底部的一侧,结构紧凑、占用空间小。温控安装在炉体侧面板上,观察直观,调节方便,温控仪具有 PID调节功能,可自动跟踪设定zui佳PID值,可任意设定测量分度密码,同时具备补偿功能,可使炉膛温度与显示值一致,具 有软启动、软关断、可控硅移相调压控制,0~98%输出可调节,面板上各种仪表开关等有相应的中文标牌。
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